
磁控濺射模具主要用于磁控濺射樣品固定或托盤類的治具,起到固定磁控濺射樣品的作用[更多]
磁控濺射原理:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜[更多]
磁控濺射模具主要用于磁控濺射樣品固定或托盤類的治具,起到固定磁控濺射樣品的作用[更多]

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